山本鍍金     電鍍設(shè)備   流場可復(fù)刻

山本鍍金     電鍍設(shè)備   流場可復(fù)刻

半導(dǎo)體晶圓電鍍標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)槽，面向高校、研究所、封測 / 芯片研發(fā)實(shí)驗(yàn)室，用來篩選鍍液、驗(yàn)證電鍍工藝、做樣片打樣，兼顧少量小批量樣品制備；對標(biāo)同類型晶圓旋轉(zhuǎn)電鍍實(shí)驗(yàn)單元，屬于行業(yè)內(nèi)認(rèn)可度很高的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型，

特點(diǎn)與優(yōu)勢

1. 晶圓自轉(zhuǎn) + 槳葉往復(fù)攪拌雙對流流場晶圓 0~80rpm 可調(diào)自轉(zhuǎn)，搭配槳式擾動(dòng)，配合溢流循環(huán)，槽內(nèi)鍍液更新快，降低濃差極化，改善高深寬比結(jié)構(gòu)填孔能力，整片晶圓鍍層均勻性好，減少中心 / 邊緣偏差。

2. 溢流穩(wěn)壓 + 循環(huán)過濾系統(tǒng)恒液面溢流設(shè)計(jì)，浸入深度穩(wěn)定，多次實(shí)驗(yàn)重復(fù)性強(qiáng)；內(nèi)置精密過濾，減少鍍液顆粒，降低針孔麻點(diǎn)缺陷，適合精密凸點(diǎn)、薄金屬布線工藝。

3. 模塊化夾具，單面 / 雙面可選，抑制爬鍍標(biāo)配陰極夾具，分標(biāo)準(zhǔn)型、密封型、真空吸引密封夾具；密封夾具只在開口區(qū)域電鍍，抑制側(cè)邊爬鍍、漏電，適合 UBM、RDL 單面電鍍；STD 型號(hào)支持雙面同步電鍍，一次完成正反面鍍層

4. 完整配套生態(tài)，可自由組合可搭配原廠 A-57 系列精密電鍍電源、YPT/YTC 溫控器、PFA / 石英加熱組件，溫控、電流、攪拌獨(dú)立可調(diào)；支持直流、脈沖電鍍，適配銅、鎳、金、錫、合金等多種鍍液體系。

5. 材質(zhì)防腐、合規(guī)性好主體亞克力，強(qiáng)酸體系可升級 PVDF；CE、UKCA 認(rèn)證，符合 IEC 安全標(biāo)準(zhǔn)，潔凈實(shí)驗(yàn)室適配；本體為實(shí)驗(yàn)槽單元，體積小巧，占用通風(fēng)櫥空間小

應(yīng)用場景

1. 優(yōu)良封裝：TSV 硅通孔填銅、RDL 重布線、UBM 底層金屬、微凸點(diǎn)（Bump）電鍍工藝開發(fā)、鍍液添加劑篩選

2. MEMS、傳感器：硅基微結(jié)構(gòu)、微流控器件、LIGA 厚金屬結(jié)構(gòu)電鍍研發(fā)

3. 功率半導(dǎo)體：SiC、GaAs 等化合物晶圓電極金屬化實(shí)驗(yàn)

4. 科研方向：高校、中科院、微電子實(shí)驗(yàn)室，電鍍機(jī)理、鍍層應(yīng)力、均勻性、合金鍍層研究

5. 光伏、微納器件：硅片電極、薄膜金屬化、掩膜后圖形電鍍小試打樣