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山本鍍金 電鍍設備 旋轉攪拌款 **半導體晶圓電鍍標準實驗槽，面向高校、研究所、封測 / 芯片研發實驗室，用來篩選鍍液、驗證電鍍工藝、做樣片打樣，兼顧少量小批量樣品制備**；對標同類型晶圓旋轉電鍍實驗單元，屬于行業內認可度很高的標準機型，

YAMAMOTO山本鍍金 電鍍設備 上海 適用于2～12英寸硅片的電鍍水槽。該水槽采用持續過濾設計，從槽底產生緩和對流，并具備溢流功能。提供單面電鍍尺寸，有亞克力和PP兩種材質可選。

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