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當前位置:首頁產品中心EBARA荏原干式真空泵EV-X300NEBARA荏原 真空泵 半導體專用
EBARA荏原 真空泵 半導體專用

產品簡介

EBARA荏原 真空泵 半導體專用
**半導體 / 泛半導體中制程無油干式真空泵,模塊化節能型干泵**
定位一句話:**兼顧腐蝕性工藝、多工藝兼容、低總擁有成本的中負荷主力干泵**

產品型號:EV-X300N
更新時間:2026-11-04
廠商性質:經銷商
訪問量:2
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EBARA荏原    真空泵     半導體專用

EBARA荏原    真空泵     半導體專用

**半導體 / 泛半導體中制程無油干式真空泵,模塊化節能型干泵**

面向晶圓、面板、光伏產線 Subfab,主打一機兼容多類含輕度腐蝕、少量副產物制程,兼顧小型化、節能與低總擁有成本(TCO)的模塊化無油干泵

    特點 & 優勢

    1. 無油干式結構,無返油污染,滿足潔凈制程要求

    2. 寬范圍獨立溫控系統,可按工藝調溫,抑制副產物凝結,延長保養周期

    3. 模塊化設計,整機體積緊湊,占地面積比競品縮小約 30%+

    4. 標配耐蝕材質;可選升級高耐蝕材質包,應對鹵素類腐蝕氣體

    5. 50/60Hz 同源性能,海外產線、國內產線機型通用

    6. 節能 BLDC 電機,待機功耗低,長期運行電費優勢明顯

    7. 一機適配多種工藝,備品型號少,庫存與運維成本降低

    8. 支持 SEMI?S2、CE、NRTL 安全認證,滿足晶圓廠規范

    9. 低振動低噪音,適配潔凈廠房 Subfab 布置

    應用場景(介質僅限清水、潔凈冷熱水)

    1. 半導體:各類蝕刻、PECVD/HDP-CVD、灰化 Ashing、離子注入、外延生長 Epi、濺射 PVD荏原製作所

    2. 光伏、顯示面板:薄膜沉積、刻蝕制程真空抽吸

    3. 科研真空、SEM / 分析設備配套(中真空需求)?適配:含輕度腐蝕氣體、少量反應副產物的工藝


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