OTSUKA大塚   膜厚計   監測儀 

OTSUKA大塚   膜厚計   監測儀 

微區薄膜光學檢測設備，定位介于普通分光膜厚儀與橢偏儀之間；主打微小圖案區域膜厚 + 光學常數 n/k 解析，兼顧研發、品控、產線在線監測；適合需要微區定點、面分布 mapping 掃描場景，性價比優于橢偏儀

特點 & 優勢

1. 微區微小光斑，最小 Φ3μm，專門測晶圓、顯示器件上圖案化、線路局部點位，普通大光斑分光膜厚儀無法測量

2. 背面反射消除算法，玻璃、透明樹脂基板上薄膜結果穩定，解決透明基底測試痛點

3. 高速測量，單點對焦 + 測量≤1 秒；電動 XY 載臺可自動多點掃描，輸出二維 / 三維膜厚分布 Mapping 圖

4. 多層膜解析能力強，最多支持 50 層膜結構擬合，同步輸出膜厚、折射率 n、消光系數 k、反射光譜

5. 兩種形態靈活選型：臺式整機適合實驗室研發質檢；獨立測頭可直接嵌入鍍膜機、刻蝕、CMP 設備做在線監控

6. 軟件友好易上手，向導式建模，新手也能完成光學模型擬合；自帶宏程序，自定義測量流程、自動報表、數據追溯；帶圖像對位，拍照定位測點

應用場景

• 半導體：晶圓氧化層、光刻膠、鈍化層、CMP 后介質膜、微小 PAD 區域膜厚檢測

• 顯示行業：MiniLED/OLED、彩膜 CF、偏光片、AR/AF 光學膜、ITO 導電膜微區檢測

• 光學元器件：濾光片、光學鏡頭鍍膜、多層介質膜、保護膜研發與來料質檢

• 新能源：光學涂層、封裝薄膜、光學膠層

• 高校院所光學薄膜、涂層材料課題研發