產(chǎn)品分類(lèi)
OTSUKA大塚 膜厚計(jì) 多層同步測(cè) 微區(qū)薄膜光學(xué)檢測(cè)設(shè)備,定位介于普通分光膜厚儀與橢偏儀之間;主打**微小圖案區(qū)域膜厚 + 光學(xué)常數(shù) n/k 解析**,兼顧研發(fā)、品控、產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè);適合需要微區(qū)定點(diǎn)、面分布 mapping 掃描場(chǎng)景,性價(jià)比優(yōu)于橢偏儀
更新時(shí)間:2026-11-06
產(chǎn)品型號(hào):SF-3/1300
瀏覽量:3
OTSUKA大塚 膜厚計(jì) 無(wú)損非接觸 微區(qū)薄膜光學(xué)檢測(cè)設(shè)備,定位介于普通分光膜厚儀與橢偏儀之間;主打**微小圖案區(qū)域膜厚 + 光學(xué)常數(shù) n/k 解析**,兼顧研發(fā)、品控、產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè);適合需要微區(qū)定點(diǎn)、面分布 mapping 掃描場(chǎng)景,性價(jià)比優(yōu)于橢偏儀
更新時(shí)間:2026-11-06
產(chǎn)品型號(hào):SF-3/800
瀏覽量:3
OTSUKA大塚 膜厚計(jì) 單側(cè)可測(cè)厚 微區(qū)薄膜光學(xué)檢測(cè)設(shè)備,定位介于普通分光膜厚儀與橢偏儀之間;主打**微小圖案區(qū)域膜厚 + 光學(xué)常數(shù) n/k 解析**,兼顧研發(fā)、品控、產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè);適合需要微區(qū)定點(diǎn)、面分布 mapping 掃描場(chǎng)景,性價(jià)比優(yōu)于橢偏儀
更新時(shí)間:2026-11-06
產(chǎn)品型號(hào):SF-3/300
瀏覽量:3
OTSUKA大塚 膜厚計(jì) 高速采數(shù)據(jù) 微區(qū)薄膜光學(xué)檢測(cè)設(shè)備,定位介于普通分光膜厚儀與橢偏儀之間;主打**微小圖案區(qū)域膜厚 + 光學(xué)常數(shù) n/k 解析**,兼顧研發(fā)、品控、產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè);適合需要微區(qū)定點(diǎn)、面分布 mapping 掃描場(chǎng)景,性價(jià)比優(yōu)于橢偏儀
更新時(shí)間:2026-11-06
產(chǎn)品型號(hào):SF-3/200
瀏覽量:3
OTSUKA大塚 智能膜厚計(jì) 分光橢偏儀 微區(qū)薄膜光學(xué)檢測(cè)設(shè)備,定位介于普通分光膜厚儀與橢偏儀之間;主打**微小圖案區(qū)域膜厚 + 光學(xué)常數(shù) n/k 解析**,兼顧研發(fā)、品控、產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè);適合需要微區(qū)定點(diǎn)、面分布 mapping 掃描場(chǎng)景,性價(jià)比優(yōu)于橢偏儀
更新時(shí)間:2026-11-06
產(chǎn)品型號(hào):FE-5000
瀏覽量:3
OTSUKA大塚 智能膜厚計(jì) 反射光譜法 微區(qū)薄膜光學(xué)檢測(cè)設(shè)備,定位介于普通分光膜厚儀與橢偏儀之間;主打**微小圖案區(qū)域膜厚 + 光學(xué)常數(shù) n/k 解析**,兼顧研發(fā)、品控、產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè);適合需要微區(qū)定點(diǎn)、面分布 mapping 掃描場(chǎng)景,性價(jià)比優(yōu)于橢偏儀
更新時(shí)間:2026-11-06
產(chǎn)品型號(hào):SM-100S
瀏覽量:3